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专利名称：一种衬底处理方法专利类型：发明专利
发明人：杨国文,赵勇明,张雨,赵卫东申请号：CN202010624195.2申请日：20200630公开号：CN111710606A公开日：20200925
摘要：本申请实施例提供一种衬底处理方法，所述衬底处理方法包括：提供半导体衬底置于反应室中；通入保护气体，在第一预设温度下，对所述半导体衬底进行烘烤；通入刻蚀气体，刻蚀所述半导体衬底表面的氧化层；停止通入所述刻蚀气体，通入所述保护气体，持续1‑30分钟。本申请实现了有效去除衬底表面的氧化层及杂质。
申请人：度亘激光技术(苏州)有限公司
地址：215000 江苏省苏州市工业园区苏州金鸡湖大道99号西北区20幢215、217室
国籍：CN
代理机构：北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人：唐菲
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