专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：一种MEMS结构的制造方法专利类型：发明专利发明人：刘端
申请号：CN201910668866.2申请日：20190722公开号：CN112250032A公开日：20210122
摘要：本申请公开了一种MEMS(微机电系统)结构的制造方法，包括：在衬底内形成贯穿所述衬底的空腔；在所述衬底的正面上方形成第一电极层，所述第一电极层覆盖所述空腔，其中，所述第一电极层的材料包括单层或多层二维材料；在所述第一电极层上方依次形成第一压电层和第二电极层。与传统的制造方法相比，本申请可以采用激光穿孔或是其他方式先在衬底上形成空腔，从而降低了制造成本，而且降低了传统的背面蚀刻给MEMS结构造成的损伤或性能退化的几率。
申请人：安徽奥飞声学科技有限公司
地址：230092 安徽省合肥市高新区习友路3333号中国(合肥)国际智能语音产业园研发中心楼611-91室
国籍：CN
更多信息请下载全文后查看